自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計與制備的詳細(xì)資料:
自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計與制備
巨磁電阻傳感器與其他類型傳感器相比,具有靈敏度高、功耗小、成本低等優(yōu)點(diǎn),尤其可以有效檢測微弱磁場的存在和變化,給工業(yè)設(shè)備自動控制、商標(biāo)檢測、精密測量技術(shù)等領(lǐng)域帶來嶄新的變革。以二次陽極氧化鋁(AAO)為模板,采用單槽控電位電沉積法制備了FeMn合金納米線,在此基礎(chǔ)上,采用雙槽控電位電沉積法制備了NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋閥多層納米線陣列。
自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計與制備
通過掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微(TEM)、X射線能譜分析儀(EDS)對納米線的微觀形貌和組成成分進(jìn)行了表征,利用物理性能測試系統(tǒng)(PPMS)測試了納米線的巨磁電阻,并以NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋閥多層納米線、 NiFe/Cu/Co/Cu多層膜和NiFe/Cu/Co/Cu多層納米線為芯片,設(shè)計并制備了巨磁電阻E+E位移傳感器,對其性能進(jìn)行了研究。SEM下觀察到FeMn合金納米線和NiFe/Cu/NiFe/FeMn自旋閥多層納米線排列整齊、分布均勻、長徑均一,直徑約為80nm。TEM下可觀察到清晰的層狀結(jié)構(gòu)。XRD測試表明,F(xiàn)eMn合金納米線在面心立方(111)晶面擇優(yōu)生長。EDS測試表明FeMn合金納米線組成為Fe_(50)Mn_(50)。提出了一種E+E位移傳感器靜態(tài)特性參數(shù)的校準(zhǔn)方法。按照阿貝測量原理,設(shè)計了一個的連接裝置和定位夾緊裝置--開口彈簧襯套,把E+E位移傳感器可靠的安裝在萬能測長儀的尾座孔中,使其與萬能測長儀組成一個測量系統(tǒng),利用萬能測長儀的測量功能,實(shí)現(xiàn)一種E+E位移傳感器靜態(tài)特性參數(shù)測量和校準(zhǔn)的新方法,解決其靜態(tài)特性參數(shù)的測量和校準(zhǔn)問題。非磁性層厚度、NiFe自由層厚度和NiFe被釘扎層厚度和FeMn被釘扎層厚度對自旋閥多層納米線巨磁電阻效應(yīng)影響較大。隨著非磁性層(Cu層)厚度的增加,自旋閥多層納米線的巨磁電阻值先增大后減小,當(dāng)Cu層厚度為3nm時,巨磁電阻性能達(dá)到*;隨著NiFe自由層厚度的增加,自旋閥多層納米線巨磁電阻值先增大后減小,當(dāng)NiFe自由層厚度為5nm時,巨磁電阻性能達(dá)到*;NiFe被釘扎層厚度為7nm時,巨磁電阻性能達(dá)到*。搭建了巨磁電阻E+E位移傳感器實(shí)驗(yàn)平臺,確定了測試條件和手段,考察了不同巨磁電阻材料的傳感器芯片對巨磁電阻E+E位移傳感器性能的影響。
自旋閥巨磁電阻材料的E+E位移傳感器的設(shè)計與制備
NiFe/Cu/Co/Cu多層納米線作為傳感器芯片時,巨磁電阻E+E位移傳感器性能*。三種傳感器芯片在不同環(huán)境溫度下,傳感器性能變化不大,具有良好的溫度穩(wěn)定性,低溫環(huán)境更有利于巨磁電阻E+E位移傳感器性能的提高。
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